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bruker納米壓痕儀主要用于微納米尺度薄膜材料的硬度與楊氏模量測(cè)試，測(cè)試結(jié)果通過(guò)力與壓入深度的曲線計(jì)算得出，無(wú)需通過(guò)顯微鏡觀察壓痕面積.主要應(yīng)用納米壓痕儀主要用于測(cè)量納米尺度的硬度與彈性模量，可以用于研究或測(cè)試薄膜等納米材料的接觸剛度、蠕變、彈性功、塑性功、斷裂韌性、應(yīng)力-應(yīng)變曲線、疲勞、存儲(chǔ)模量及損耗模量等特性。可適用于有機(jī)或無(wú)機(jī)、軟質(zhì)或硬質(zhì)材料的檢測(cè)分......
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等離子體是部分離化的中性氣體，在等離子體中自由電子與中性分子，原子進(jìn)行碰撞，通過(guò)碰撞電離，進(jìn)一步得到更多的電子和離子?；陔娮拥哪芰?，可以獲得更豐富的離子，激發(fā)態(tài)高能中性粒子等，同時(shí)由于電子吸附在中性氣體表面還可獲得負(fù)離子。刻蝕方法在塑料印刷和粘合時(shí)作為預(yù)處理手段是十分重要的，等離子蝕刻機(jī)用于刻蝕塑料表面，通過(guò)氧氣可以......
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等離子去膠法，去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中，通入少量氧氣，加1500V高壓，由高頻信號(hào)發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號(hào)，使石英管內(nèi)形成強(qiáng)的電磁場(chǎng)，使氧氣電離，形成氧離子、活化的氧原子、氧分子和電子等混合物的等離子體的輝光柱。活化氧（活潑的原子態(tài)氧）可以迅速地將聚酰亞胺膜氧化成為可揮發(fā)性氣體，被機(jī)械泵抽走，這樣......
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等離子去膠機(jī)是適用于硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體前后道的等離子體去膠設(shè)備，主要用于光刻膠的剝離或灰化，也可用于有機(jī)及無(wú)機(jī)殘留物的去除，去除殘膠以及等離子刻蝕的應(yīng)用，清洗微電子元件、電路板上鉆孔或銅線框架，提高黏附性等，它的設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定可靠、易于維護(hù)、產(chǎn)能高。它的工藝簡(jiǎn)單、效率高，處理后無(wú)酸氣廢水等殘留......
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等離子刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材......
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