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bruker納米壓痕儀應用范圍
bruker納米壓痕儀主要用于微納米尺度薄膜材料的硬度與楊氏模量測試,測試結果通過力與壓入深度的曲線計算得出,無需通過顯微鏡觀察壓痕面積.主要應用納米壓痕儀主要用于測量納米尺度的硬度與彈性模量,可以用于研究或測試薄膜等納米材料的接觸剛度、蠕變、彈性功、塑性功、斷裂韌性、應力-應變曲線、疲勞、存儲模量及損耗模量等特性??蛇m用于有機或無機、軟質(zhì)或硬質(zhì)材料的檢測分......
對于低壓等離子技術,氣體在真空中通過獲取能量從而被激發(fā)。等離子由高能離子、高能電子以及其它反應粒子組成。由此,等離子材料表面可以被有效的改變。其diener等離子清洗機效應可以分為以下三類-·微砂噴射:材料表面通過離子轟擊被消減·化學反應:材料表面與離子化的氣體產(chǎn)生化學反應·紫外線放射:紫外射線將長鏈破化合物分解通過改......
BRUKER納米壓痕儀是一種用于研究材料力學性能和納米結構表征的儀器。它通過在材料表面施加控制的壓力,同時測量材料的變形和硬度等參數(shù),從而獲得材料的力學性能數(shù)據(jù)。BRUKER納米壓痕儀的基本組成部件包括以下幾個方面:1、壓頭系統(tǒng):壓頭系統(tǒng)是其核心部件,用于施加壓力到樣品表面。通常由控制器、壓頭和傳感器組成。壓頭可根據(jù)實......
在半導體制造中,plasma清洗機是一種非常重要的設備,用于清潔和處理半導體器件表面,以確保器件的質(zhì)量和性能。利用高能離子和活性氣體來去除表面的有機和無機雜質(zhì),同時可以改變表面的化學性質(zhì),從而提高器件的性能。在半導體制造中,plasma清洗機主要用于以下幾個方面:1、清洗表面:在半導體器件的制造過程中,表面往往會被污染......
X射線本質(zhì)上是一種與可見光相同的電磁波,波長為0.01-100?,介于紫外線和γ射線之間,又稱為琴倫射線。具有很強的穿透性,可使被照射物質(zhì)產(chǎn)生電離,同時具有熒光作用,熱作用以及干涉,反射和折射等作用??茖W家們利用X射線的這些原理,研制出了各種各樣的檢測設備,應用于醫(yī)療和工業(yè)領域的各個行業(yè),在材料科學和失效分析領域的應用......
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