在當(dāng)今工業(yè)界，材料清洗是確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能的關(guān)鍵一環(huán)。雖然傳統(tǒng)的溶劑清洗一度在污染物處理方面表現(xiàn)出色，但卻常常難逃環(huán)境負(fù)擔(dān)和基材腐蝕等問(wèn)題。近年來(lái)，等離子清洗作為一項(xiàng)前沿技術(shù)，正日益迅猛地受到矚目。這項(xiàng)技術(shù)不僅消除了使用有害濕化學(xué)方法的需求，還能夠高效清除那些狹窄隙縫和隱蔽腔體中的污染物。

ATTO等離子清洗器，一款低成本、高性能的低壓等離子設(shè)備，擁有10.5升的清洗容量，適用于小批量生產(chǎn)、分析、醫(yī)療技術(shù)、研究開(kāi)發(fā)、考古和紡織技術(shù)等領(lǐng)域。ATTO設(shè)備提供手動(dòng)操作或基本PC控制系統(tǒng)，為您帶來(lái)靈活性和便捷性。

規(guī)格亮點(diǎn)：

? 設(shè)備尺寸：寬425 mm、高275 mm、深450 mm

? 真空腔室：∅ 211 mm，長(zhǎng)300 mm，采用玻璃（硼硅玻璃）材質(zhì)

? 腔室容積：約10.5升

? 氣體供給：2個(gè)針型閥控制的氣體通道，配備MFC

? 發(fā)生器：40 kHz/200 W、13.56 MHz/300 W

? 真空泵：最小抽吸性能3 m3/h

? 部件支架：1個(gè)產(chǎn)品支架

? 控制系統(tǒng)：手動(dòng)或Basic PC控制系統(tǒng)（Microsoft Windows CE）