進(jìn)口等離子清洗機(jī)的清洗原理是在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，以達(dá)到清洗目的。
 

　　真空等離子清洗機(jī)由真空發(fā)生系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、等離子發(fā)生器、真空腔體及相關(guān)機(jī)械等幾個部分構(gòu)成。應(yīng)用時可以根據(jù)客戶的要求定制符合客戶需要的真空等離子清洗機(jī)。
 

　　真空等離子清洗機(jī)利用兩個電極形成電磁場，用真空泵實(shí)現(xiàn)有效的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子之間的間距及分子或離子的自由運(yùn)動的距離也越來越長，受磁場作用發(fā)生碰撞而形成等離子體并產(chǎn)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)的空間運(yùn)動，并不斷轟擊被處理物體表面，去除表面油污以及表面氧化物、灰化表面有機(jī)物以及其它化學(xué)物質(zhì)，以此達(dá)到表面處理清洗和刻蝕的效果。
  

　　真空離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于表面去污及等離子刻蝕，聚四氟(PTFE)及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面活化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序，因此廣泛應(yīng)用于汽車領(lǐng)域、電子領(lǐng)域、電子領(lǐng)域、PCB制成行業(yè)等高精密度領(lǐng)域。
 

　　在這種情況下，等離子處理可以產(chǎn)生以下效果：
 

　　1、灰化表面有機(jī)層
 

　　污染物在真空和瞬時高溫下的部分蒸發(fā)，污染物被高能離子粉碎并被真空帶走。
 

　　紫外輻射破壞污染物，由于等離子體處理每秒鐘只能穿透幾納米，所以污染層不應(yīng)該太厚。指紋也適用。
 

　　2、氧化物去除
 

　　這種處理包括使用氫或氫和氬的混合物。有時也采用兩步流程。第一步是用氧氣氧化表面5分鐘，第二步是用氫和氬的混合物除去氧化層。它也可以同時用幾種氣體處理。
 

　　3、焊接
 

　　通常，印刷電路板應(yīng)在焊接前用化學(xué)藥劑處理。焊接后，這些化學(xué)物質(zhì)必須用等離子體法去除，否則會引起腐蝕和其他問題。